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创纯半导体超纯水设备工艺流程为:原水箱---原水泵---多介质过滤器---活性炭过滤器---保安过滤器---一级增压泵---一级反渗透---二级增压泵---二级反渗透---纯水箱---EDI泵---保安过滤器---EDI装置---紫外线杀菌器---抛光树脂---氮封水箱---用水点
整个系统根据现场实际情况,采用玻璃钢反渗透膜壳,配以陶氏8040反渗透膜,产水量2吨/小时,EDI产水电阻率18MΩ·cm。