| 光电、半导体行业超纯水设备工艺流程 | 2024-5-4 |
原水→原水泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→软化过滤器→保安过滤器→中间水箱→ 一级高压泵→ 一级反渗透系统→纯水箱→二级高压泵→二级反渗透系统→二级纯水箱→EDI增压泵→EDI主机→超纯水箱→增压泵→抛光混床→精密过滤器→UV紫外线杀菌→用水点（水质可达18MΩ.cm，... |
| 反渗透膜清洗系统 | 2024-4-30 |
反渗透装置在正常运行条件下，膜元件也会被无机物垢、胶体、微生物、金属氧化物等污染，这些物质沉积在膜表面，引起脱盐率和产水量下降。为了恢复良好的透水和除盐性能，需对膜进行化学清洗。... |
| 去离子水处理设备的特点 | 2024-4-28 |
去离子水是指除去了呈离子形式杂质后的纯水，离子交换设备是传统的去离子水设备。... |
| EDI装置与混床的比较 | 2024-4-26 |
EDI的优点
1、模块化设计，占地面积小
2、连续运行，简单操作... |
| 涂装电镀用纯水设备 | 2024-4-25 |
电镀涂装行业中，为了增加镀件表面光洁度、亮度、附着力，电镀液的配制需要用电导率在15uS/cm以下的纯水；镀件漂洗时需用电导率在10uS/cm以下纯水来清洗。通常由预处理，超滤，反渗透，离子交换，EDI设备等组成，以满足电镀行业用水水质的要求。... |
| 反渗透纯水设备各部件主要作用 | 2024-4-24 |
原水箱：配有高低水位控制器，当水箱液位高于设置的水位时，原水阀自动关闭；当水箱液位低于设置的水位时，后端系统自动停机，保护水泵不会因缺水而烧坏；... |
| 反渗透纯水设备调试注意事项 | 2024-4-23 |
通常要求运行时进水的余氯含量为0.1mg/l，进水中余氯浓度若超出此要求会造成膜元件脱盐率下降。余氯采用ORP表在线监或是比色法测定。... |
| 反渗透纯水设备调试注意事项 | 2024-4-23 |
通常要求运行时进水的余氯含量为0.1mg/l，进水中余氯浓度若超出此要求会造成膜元件脱盐率下降。余氯采用ORP表在线监或是比色法测定。... |
| 活性碳过滤器的作用 | 2024-4-22 |
活性碳过滤器的作用主要是去除大分子有机物、铁氧化物、余氯。有机物、铁氧化物易使离子交换树脂中毒，余氯、阳离子表面活性剂会破坏膜元件结构，使反渗透膜失效。... |
| EDI超纯水系统 | 2024-4-19 |
DI是利用混和离子交换树脂吸附给水中的阴阳离子，这些被吸附的离子在直流电压的作用下，分别透过阴阳离子交换膜而被除去的过程。... |
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