【苏州纯水设备】半导体超纯水系统的指标

半导体制造用水对电阻率的要求极高，需通过多重过滤、离子交换、除气、反渗透、紫外线、超滤、纳米滤、离子吸附等复杂工艺才能实现。

电阻率要求：

1、微电子工业用超纯水：电阻率需要大于10 MΩ·cm以上。

2、超大规模集成电路用超纯水的电阻率在18 MΩ·cm以上。

3、半导体芯片产业用超纯水：电阻率一般在18.25 MΩ·cm。

其他水质指标：

1、总有机碳（TOC）：小于1～10ppb45。

2、溶解氧（DO）：小于1～10ppb45。

3、微粒（0.05微米）：小于200个/升45。

4、离子含量：大多小于20～50PPT，且不得检测到细菌45。

5、硼的脱除：硼是P型杂质，过量会使n型硅反型，影响电子、空穴浓度，因此在超纯水制备过程中需充分考虑硼的脱除。

6、溶解氧的去除：半导体行业对溶解氧（DO）的要求需小于1ppb，去除水中的溶解氧需保证容器和管道的严格气密性，通常通过多级高性能脱气膜来实现。苏州反渗透纯水设备 苏州EDI超纯水处理设备 苏州工业纯水设备 苏州实验室超纯水设备 苏州医药纯化水设备